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内容摘要: 吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料去除率。
吉致电子SiC碳化硅衬底研磨抛光产品
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    产品分类:吉致·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光
    产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫
    产品特点:吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料去除率。
    产品工艺及用途:适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程,有效提升效率以及良率,碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。
    吉致sic碳化硅抛光液储存方法:
    通风,阴凉,干燥的库房,本品需在5-35℃储存,防止阳光直射,零度以下因产生不可再分散结块而失效。
    吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格:
    吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。
    本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快,抛光液价格实惠。
    吉致cmp抛光耗材适用范围
    吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备,为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供有效的抛光解决方案!
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